Home » Organisatie » Vacatures

Stageplaatsen

 

 

MBO/HBO studenten (M/V) binnen de Ontwerpgroep en de groep Fijnmechanische Techniek

Binnen de groep Mechanische Techniek is het gehele jaar door plaats voor stagiaires/afstudeerders op mbo en hbo niveau op zowel de subgroep Fijnmechanische Techniek als de Ontwerpgroep.
De groep Mechanische Techniek ontwerpt en maakt de (fijn)mechanische apparatuur benodigd voor het wetenschappelijk onderzoek dat bij de verschillende experimenten wordt uitgevoerd. De Ontwerpgroep maakt gebruik van het 3D ontwerppakket Catia V5. De groep Fijnmechanische Techniek is in bezit van een aantal conventionele draai- en freesbanken, maar ook van een CNC draaibank en een aantal CNC freesbanken.

 

Voor eventuele vragen over een positie binnen de Ontwerpgroep kun je contact opnemen met F [dot] J [dot] vanAmerongen [te] differ [dot] nl (Frank van Amerongen) en voor een positie binnen de groep Fijnmechanische Techniek is P [dot] M [dot] Wortman [te] differ [dot] nl (Peter Wortman) je aanspreekpunt.

^ top

 

 

Student (M/V) "Nanolayer Surface & Interface Physics"

Bij de afdeling nSI (nanolayer- Surface and Interface Physics) van het FOM-instituut DIFFER, Nieuwegein, is plaats voor één of meerdere

Student(en) (M/V)

voor onderzoek op het gebied van oppervlakte- en vaste-stof-fysica van speciale multilaagstructuren voor de reflectie van licht in het Extreem-Ultraviolet golflengtegebied (m.n. 13,5 nm). Dit is o.a. van belang voor toepassing in de EUV Lithografie: een nog zeer experimentele afbeeldingsmethode waarmee IC-patronen kunnen worden gemaakt tot 30 nm, ruim beneden de huidige grenzen. Met deze speciale reflectieoptiek is op DIFFER onlangs een wereldrecordreflectie van boven de 70% gehaald. Het principe van deze multilayer-coatings is gebaseerd op in-fase reflectie aan elk van de lagen in de multilaagstructuur. Door de korte golflengte zijn de lagen slechts enkele nanometers dik: een enorme uitdaging voor zowel de fysische ontwerpen als de fabricage en analyse. Vooral de grensvlakken van de gelaagde structuren moeten met atomaire precisie worden gedefinieerd. Atomaire en moleculaire diffusie aan de grensvlakken resulteert nl. snel in verminderde reflectie van de EUV straling. Het wetenschappelijke werk bestaat dan ook uit het 'sleutelen op atomair nivo' aan deze dunne films, waarvoor zowel vaste-stof- en grenslaagfysica als optische kennis nodig is. Voor het onderzoek aan deze optiek staan een unieke UHV opdamp-opstelling en diverse hoge-resolutie meetapparatuur ter beschikking.

 

 

Het onderzoek wordt uitgevoerd met steun van o.a. Carl Zeiss SMT, ASM Lithografie, de Stichting STW en de Stichting FOM en heeft tot doel de onderliggende fysische processen verder te beheersen, zodat toepassing van de optiek in de EUV-lithografie mogelijk wordt. Er wordt verder nauw samengewerkt met o.a. Philips, FOM-Amolf, en de Universiteit Twente. Binnen de afdeling nSI bestaan opdrachten op een aantal gevarieerde gebieden:

 

  • het ontwerpen en fabriceren van nanometer-dunne laagstructuren met atomaire precisie
  • het bedenken van structuren met nieuwe toepassingsmogelijkheen, bijv in de spectroscopie en materiaalanalyse
  • de fysische invloed van straling en deeltjes van EUV lichtbronnen op de multilaagstructuren, zoals bijv. intermixing van lagen
  • het ontwerpen en bouwen van UHV mechanische componenten met nauwkeurigheden in het picometergebied
    Geïnteresseerden worden uitgenodigd informatie in te winnen bij prof. dr. Fred Bijkerk (tel 030 6096837 of F [dot] Bijkerk [te] differ [dot] nl (e-mail)). FOM keert een stagevergoeding uit.

^ top